张羽翔，男，1992年8月生，河南许昌人，汉族，中共党员。2013年毕业于郑州轻工业大学，获得化学工程与工艺专业工学学士学位；2019年毕业于江南大学，获得江南大学化学工程与技术专业工学博士学位。2019年7月至今在许昌学院工作。主要承担化学工程与工艺专业《化工过程分析与合成》、《化工专业导论》等课程的讲授。
研究领域及方向：
无机合成（无机化学与核化学、金属有机化学方向）、材料科学（纳米薄膜材料与非均相纳米催化材料方向）
发表学术论文及专利：
1. Yuxiang Zhang, Liyong Du, Xinfang Liu, Yuqiang Ding*. High growth per cycle thermal atomic layer deposition of Ni films using an electron-rich precursor[J]. Nanoscale, 2019, 11: 3484-3488.（Communication, Cover article）
2. Yuxiang Zhang, Liyong Du, Xinfang Liu, Yuqiang Ding*. A high growth rate atomic layer deposition process for nickel oxide film preparation using a combination of nickel(II) diketonate-diamine and ozone[J]. Applied Surface Science, 2019, 481: 138-143.
3. Yuxiang Zhang, Liyong Du, Xinfang Liu, Yuqiang Ding*. Synthesis, characterization, and thermal properties of cobalt(II) compounds with guanidinate ligands[J]. New Journal of Chemistry, 2018, 42: 9110-9115.
4. Yuxiang Zhang, Liyong Du, Xinfang Liu, Yuqiang Ding*. A nickel(II) guanidinate compound and its potential as CVD precursor for nickel related films[J], Polyhedron, 2018, 156: 218-222.
5. Yuxiang Zhang, Liyong Du, Xinfang Liu, Yuqiang Ding*. An iron(II) guanidinate compound: synthesis, characterization, thermal properties and its application as a CVD precursor for iron oxide film[J], Applied Organometallic Chemistry, 2019, DOI: 10.1002/aoc.4981.
6. Liyong Du, Wei Huang, Yuxiang Zhang, Xinfang Liu, Yuqiang Ding*. The first atomic layer deposition process for FexN films, Chemical Communications, 2019, 55: 1943-1946.
7. Yuxiang Zhang, Liyong Du, Yuqiang Ding*. Efficient thermal atomic layer deposition processes enhancing by precursors containing long chains electron-donating ligand, 256th ACS National Meeting, 2018, INOR 722.
8. 一种单原子层沉积技术生长含Ni薄膜的方法[P]. 中国专利，申请号： 201610424181.X
9. 一种以肼类为还原剂单原子层沉积技术生长金属Cu的方法[P]. 中国专利， 申请号：201611035067.4
