扫描电子显微镜是利用二次电子信号成像来观察样品的表面形态的一种现代分析仪器，即用极狭窄的电子束扫描样品，通过电子束与样品之间的相互作用产生各种效应，其中主要是样品的二次电子发射。二次电子能够产生样品表面放大的形貌像，进而获得样品自身的各种物理、化学性质的信息，如形貌、组成、晶体结构、电子结构和内部电场或磁场等等。广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。

扫描电镜主要用于观察材料表面的微细形貌、断口及内部组织，并对材料表面微区成分进行定性和定量分析，主要用途如下： 

无机或有机固体材料断口、表面形貌、变形层等的观察和机理研究 

金属材料的相分析、成分分析和夹杂物形态成分的鉴定 

观察陶瓷、混凝土、生物、高分子、矿物、纤维等无机或有机固体材料表面的形貌 

微型加工的表征和分析集成电路图形及断面尺寸，PN结位置，结区缺陷 

金属镀层厚度及各种固体材料膜层厚度的测定 

研究晶体的生长过程、相变、缺陷、无机或有机固体材料的粒度观察和分析 

Scanning Electron Microscope

仪器型号：Zeiss EVO LS-15

仪器缩写：SEM

生产厂家：德国Zeiss公司

技术参数：

分辨率：3.0nm@ 30KV(SE and W)  4.0nm@ 30KV(VP with BSD)

加速电压：0.2~30KV

放大倍数：5~1000000x

探针电流：0.5PA~5μA

压力范围：10~400Pa (环扫模式10-3000Pa)

工作室：365mm(φ)×275mm(h)

5轴优中心自动样品台：X=125mm  Y=125mm  Z=50mm  T=-10°- 90°R=360°

最大试样高度：145mm，最大试样直径：250mm

主要特点：

能在可变压力下操作

EBSD分析

可移动大平台

 快抽真空

可在低真空和水蒸气下成像和分析